Fornitura di substrato Si di wafer di silicio monocristallino di tipo N/P per materiali ottici a infrarossi

Wafer di silicio opzionale tipo N/P con substrato Si di wafer di silicio monocristallino personalizzato 1. Cosa sono i w

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DESCRIZIONE

Informazioni di base

Modello numero:	FW-LN
Tecnologia di produzione	Semiconduttore optoelettronico
Materiale	Semiconduttori composti
Tip	Proprio semiconduttore
Pacchetto	SMD
Elaborazione del segnale	Composizione e funzione analogico-digitale
Applicazione	GUIDATO
Modello	1324
Numero di lotto	Lucidato
Marchio	Finewen
Metodo di crescita	CZ e FZ
orientamento	111 o 100
Resistenza	0,0005 fino a 150
superficie	Lucido su entrambi i lati o lucido su un lato
drogante	Tipo N e tipo P
Particella	<30 bei 0,3 um
Il libro	< 30 Ähm
TV	<15 Ähm
Pacchetto di trasporto	Cassa
specifica	dimensione individuale
marchio	FW-Wafer
Origine	Jiaozuo Henan
Capacità produttiva	100.000 pezzi/mese

Descrizione del prodotto

Wafer di silicio monocristallino personalizzato, substrato Si di tipo N/P, wafer di silicio opzionale

1. Cosa sono i wafer di ossido di silicio e la loro applicazione:
Il wafer di biossido di silicio si riferisce alla crescita termica di una pellicola dielettrica uniforme sulla superficie del wafer di silicio, utilizzata come materiale isolante o maschera. Il processo di ossidazione comprende l'ossidazione dell'ossigeno secco ad alta temperatura e l'ossidazione dell'ossigeno umido ad alta temperatura.

Supply Single Crystal Silicon Wafer Si Substrate Type N/P for Infrared Optical Materials

2.Descrizione del prodotto

Nome del prodotto	CZ e FZ Wafer di silicio lucido
Materiale	silicio
diametro	150mm
Finitura superficiale	SSP
orientamento	Nessuna richiesta
Laureato	Nessuno
Tip	Nessuno
Resistenza	Nessuno
spessore	2500um

3. Realizzazione di un wafer di silicio
Cresceredi silicio Il processo può richiedere da una settimana a un mese a seconda di molti fattori tra cui dimensioni, qualità e specifiche. Oltre il 75% di tutti i wafer di silicio monocristallino vengono coltivati utilizzando il metodo Czochralski (CZ).

Supply Single Crystal Silicon Wafer Si Substrate Type N/P for Infrared Optical Materials

4. Attrezzature che utilizziamo

Supply Single Crystal Silicon Wafer Si Substrate Type N/P for Infrared Optical Materials

Finestra di cristallo di germanio Ge a infrarossi personalizzata, foglio di wafer Ge ottico, cristallo di germanio Flir Ftir

Cristalli optoelettronici non lineari Ktp, alta qualità ottica

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