Nuovo metodo per ottimizzare l'allineamento dei nanocristalli di cellulosa

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Mar 24, 2023

Nuovo metodo per ottimizzare l'allineamento dei nanocristalli di cellulosa

The Vistec SB3050-2 is the most advanced electron beam lithography system with

Vistec SB3050-2 è il sistema di litografia a fascio di elettroni più avanzato con tecnologia del fascio a forma variabile, che consente un'ampia gamma di applicazioni in ricerca e sviluppo, prototipazione e produzione in piccoli volumi.